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  • 半导体陶瓷备件是指具有半导体特性、电导率约在10-6~105S/m的精密陶瓷制品。半导体陶瓷的电导率因外界条件(温度、光照、电场、气氛和温度等)的变化而发生显著的变化,因此可以将外界环境的物理量变化转变为电信号,制成各种用途的敏感元件。半导体陶瓷备件生产工艺的共同特点是必须经过半导化过程。半导化过程可通过掺杂不等价离子取代部分主晶相离子(例如,BaTiO3中的Ba2+被La3+取代),使晶格产生缺

    日期:2022-05-26
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  • 工业陶瓷结构件,是具有优异的机械,热和化学性能(如耐高温,耐腐蚀,耐腐蚀,高硬度,高强度和低蠕变速率)的高级陶瓷,通常用于各种结构部件中,是精密陶瓷中的一类。工业陶瓷结构件性能特点如何,常应用加工哪些地方?诺一精密为您分享。工业陶瓷结构件的应用加工及性能特点1、工业陶瓷结构件的应用:结构陶瓷具有优越的强度,硬度,绝缘性,导热性,耐高温性,抗氧化性,耐腐蚀性,耐磨性,高温强度等特性。因此,在非常恶劣

    日期:2022-05-26
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  • 陶瓷结构件,是具有优异的机械,热和化学性能(如耐高温,耐腐蚀,耐腐蚀,高硬度,高强度和低蠕变速率)的高级陶瓷,陶瓷结构件性能优越,耐磨性好,所以能够满足非常精细的加工需求。陶瓷结构件在生产中常用哪些工艺,才让其拥有这么好的性能呢?诺一精密为您分享。陶瓷结构件生产工艺1、成型工艺陶瓷结构件在出产中首要使用了成型工艺,而且有三种首要的工艺办法,其一是注浆成型,通过物理脱水和化学凝集来完结,可以进步离子

    日期:2022-05-26
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  • 由氮化铝粉体制备的氮化铝陶瓷综合性能优良,非常适用于半导体基片和结构封装材料,在电子工业中的应用潜力非常巨大。氮化铝粉体常见制备工艺有哪些?诺一精密陶瓷为您分享:氮化铝粉体的制备工艺氮化铝粉末的制备工艺主要包括直接氮化和碳热还原,以及自蔓延合成、高能球磨、原位自反应合成、等离子体化学合成和化学气相沉淀。1、直接氮化直接氮化法是在高温氮气气氛中,铝粉与氮气直接结合形成氮化铝粉体,其化学反应式为2Al

    日期:2022-05-26
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  • 氮化铝陶瓷是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷,综合性能优良,非常适用于半导体基片和结构封装材料,在电子工业中的应用潜力非常巨大。氮化铝陶瓷主要应用于哪些领域?诺一精密陶瓷为您分享:氮化铝陶瓷的应用1、纯度高、粒径小、活性高的氮化铝粉末是制造高导热性氮化铝陶瓷基板的主要原料。2、氮化铝陶瓷基板,导热系数高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是理想的大型集成电路散热基板和封

    日期:2022-05-26
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  • 氮化铝陶瓷是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷,综合性能优良,非常适用于半导体基片和结构封装材料,在电子工业中的应用潜力非常巨大。氮化铝陶瓷主要应用于哪些领域?诺一精密陶瓷为您分享:氮化铝陶瓷的特点氮化铝陶瓷即使在高温下也具有优异的抗弯曲性能。其他种类的陶瓷材料一般在1200摄氏度到1400摄氏度之间会出现明显的强度下降趋势,而氮化铝陶瓷在1400摄氏度的高温环境下可以保持500兆帕左右的弯曲强度。

    日期:2022-05-26
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  • 氮化铝陶瓷是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷,综合性能优良,非常适用于半导体基片和结构封装材料,在电子工业中的应用潜力非常巨大。氮化铝陶瓷的产品性质有哪些?诺一精密陶瓷为您分享:氮化铝陶瓷的产品性质1)组成和结构氮化铝的分子式为Si3N4,这是一种通过共价键结合的化合物。氮化铝陶瓷是具有六方晶体结构的多晶材料。它们一般分为α和β晶向,由[SiN4]4四面体组成。在高温(1400℃~1800℃)下,

    日期:2022-05-26
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  • 氮化铝陶瓷是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷,他的优异性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境,具有特殊的使用价值。氮化铝陶瓷会用在哪些领域,哪些地方?诺一精密陶瓷为您分享:氮化铝陶瓷的用途(1)在冶金行业制造坩埚、马弗炉、炉膛、燃烧嘴、加热夹具、模具、铝导管、热电偶保护套管、铝电解槽内衬等热工设备部件。(2)在机械制造行业制造高速车刀、轴承、金属零件热处理用支撑件、转子发动机叶

    日期:2022-05-26
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  •   东莞市诺一精密陶瓷科技有限公司(诺一精瓷)成立于2017年,荣获国家高新技术企业和广东省守重企业。专注于先进陶瓷材料与零部件以及相关产品的研发与制造、专业检测、销售与服务,公司主要产品涉及精密机械、能源工业、电子通讯、自动化设备、智能穿戴、医疗器械等各种行业领域,是一家提供先进陶瓷产品及解决方案为一体的科技型企业。

    日期:2021-12-03
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