8月19日上午，嘉兴南湖政府网站披露，张汝京博士作为项目领衔人及其团队等出席总投资30亿元的光罩材料产业链项目签约仪式。
签约仪式上，项目负责人张汝京博士为大家介绍了关于光罩的“知识点”。据介绍，光罩也称为光掩模版，在IC制造过程中，其作用是将设计好的电路进行显影，将图形投影在晶圆上，利用光刻技术进行蚀刻，是半导体光刻工艺中所需的高精密工具。
据悉，该项目总投资30亿元，首期投资11亿元，将落户于南湖高新区集成电路产业园，主要从事光罩材料产业链相关产品的研发制造，产品包括高平整度石英基板、镀膜基板（含二元及相位移的）、保护膜等原材料。项目计划于今年9月启动，2023年4月第一条生产线试生产，2024年1月正式投产，2026年1月达产，财务机构预估达产后年产值不低于10亿元，年税收不低于1.1亿元。
据介绍，嘉兴科技城（南湖高新区）第一大主导产业便是微电子产业，近年来，嘉兴科技城（南湖高新区）聚焦半导体关键原材料、半导体器件、智能终端应用三个领域打造国内领先、特色鲜明的微电子产业，目前已集聚微电子产业200多家，去年工业总产值达370亿元。
光掩模版介绍
光掩膜版一般也称光罩、掩膜版，在半导体制程过程是非常关键的一环，可以想像为在半导体、液晶显示器在制造过程中，转移电路图形“底片”的高精密工具。
光掩模主要是将电脑所设计的半导体设计回路图，通过光刻制版工艺，将芯片客户所需要的微米和纳米级的精细图案制成掩模版，是电路图写在半导体晶圆之前，最先被呈现的半导体零件，这原理就好像是利用底片洗出数千张的照片，通过光掩模，也能在众多的晶圆上写出半导体回路。再者，光掩模的细致度和准确度，也直接关系着半导体芯片的品质。
国内外光掩模厂几何
全球光掩模（photomask）市场一年市场规模约 35 亿～40 亿美元上下。全球半导体光罩市场中，65%的市场份额由晶圆厂自有光罩厂占据，剩余35%的份额则被独立第三方光罩厂所瓜分。主要供应商以美日大厂为主，其中日本凸版印刷、大日本印刷、美国 Photronics 三家就占了 80% 以上的市占率，其他还有日本豪雅 HOYA、日本 SK 电子、台湾光罩等。
2019年中国半导体光罩市场规模约1.4亿美元，2021年中国半导体光罩市场规模约2.0亿美元。国内规模型光罩企业主要分为两类：一是晶圆厂自建工厂，包括中芯国际的光罩厂，华润微电子的光罩厂（无锡迪思微电子）等；二是独立光罩企业，包括中微掩膜、清溢光电和路维光电等。
除了独立运营的光掩模厂，像是台积电、三星、英特尔等大型半导体厂内部也有自己的光掩模部门。有些半导体厂的策略是高端工艺技术采用自己的光掩模技术，成熟工艺技术会委外释单给其他的光掩模厂生产。
以台积电为例，以往光掩模多是自给自足。因此，通常在台积电下单的 IC 设计公司基于确保制程、良率稳定，也都会以台积电的光掩模部门为合作对象。
不过，近几年的芯片热潮下，台积电因为接单持续满载，开始出现内部光掩模产能不足的状况。因此，台积电也开始扩大使用外部的光掩模产能，进而使得全球光掩模产能都呈现满载。
关键“卡脖子”材料
随着半导体产业的迅速发展，光罩作为芯片的关键原材料，市场需求不断上升。目前，光罩材料部分产品完全依赖进口，尤其是光罩保护膜，目前仅有海外少数几家厂商有能力生产，国内该方面技术仍为空白。本项目旨在成为国内光罩上游材料龙头，解决国内半导体材料“卡脖子”问题。
光刻设备、材料作为我国半导体制造业中的短板，制约着晶圆制造业的发展，作为先进制程以及成熟制程的关键环节，光刻技术是摩尔定律不断突破的重要保证，发展掩模版技术，对补齐产业链短板有重要作用。
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